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    打破美国技术封锁,,,,芯片制造关键设备取得突破!!!美国得失望了

    文章来源:   发布时间:2021-06-01 10:52   点击:

    打破美国技术封锁,,芯片制造关键设备取得突破!!!!美国得失望了(图1)

      芯片对半导体行业的影响很大,,,而关于芯片的很多关键技术,,都被发达国家所掌握,,因此才会出现技术封锁、、、、技术垄断等情况。。去年美国对芯片贸易进行政策调整,,,,就对我国的半导体行业造成了很大的影响。。。

      例如华为的芯片有一段时间供应不上,,,,逼得华为不得不转型。。而如今中国的科技公司,,,在耗时十一年后,,,终于打破了美国的技术封锁,,研制出芯片制造的关键设备,,那就是刻蚀机。。

      众所周知,,,芯片的制造有三个设备十分重要,,包括光刻机、、、、刻蚀机以及薄膜沉积设备。。但由于技术垄断,,,中国想在光刻机和薄膜沉积技术上有所突破十分困难。。。。因此只能另辟蹊径,,,中国在刻蚀机技术上投入了很多。。。如今刻蚀机的技术被中国企业所掌控,,而且十分先进,,而掌握这项技术的企业叫中微半导体。。。。

      据了解,,,中微半导体在2015年就研发制造出了5nm刻蚀机。。。这对中国的半导体行业影响巨大,,因为这是中国第一台自主生产刻蚀机,,,,意味着中国有生产芯片的设备了。。。但中微半导体的研究之路并不顺畅,,,,早年间,,,美国便对中国的刻蚀机出口做了限制,,,还对中国进行技术封锁,,研究环境十分艰难。。但中微半导体在尹志尧的带领下,,,,从2004年突破重重关卡,,,,终于在2015研制出了5nm刻蚀机,,,打破垄断。。。

      中微半导体在世界上也很有影响力,,几年前生产的5nm刻蚀机,,是世界上第一台5nm刻蚀机。。。。去年该公司在5nm刻蚀机领域上又有新的突破,,而且通过了台积电验证。。说明5nm刻蚀机的性能以及质量都比较好,,可以运用到生产线中。。。。如今中微半导体已经有了台积电下的订单。。。

      而中微还在继续研究,,主要针对3nm刻蚀机,,,,若是3nm刻蚀机被成功研制出来,,,,那么未来的刻蚀机技术,,,,就还在中国的掌握之中。。

      虽然中国在半导体行业上,,,与其他国家有差距,,但5nm刻蚀机的出现,,,给了中国半导体行业发展的新希望。。它证明了中国的技术也不差,,,中国的企业也可以研制出先进的产品。。。。

      相信大家和我一样作为中国人,,,始终相信中国在科研方面不比他国差。。。尊龙时凯始终相信,,中国早晚在半导体行业会有其他突破!!!不再受制于任何人!!!!

    来源: 武宁宁聊娱乐

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